
安芸 真奈( AKI, Mana )
1960年 | 高知県生まれ |
1982年 | 高知大学卒業 |
主要な展覧会・受賞 |
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2008年 | 高知国際版画トリエンナーレ[02,05](いの町紙の博物館、高知) |
2006年 | Internationale Grafiek Manifestatie /国際版画宣言展(ホーグザンド、オランダ) |
2004年 | 第3回ラテンアメリカ国際版画ビエンナーレ展 /特別展示:日本版画展 (ブエノスアイレス、アルゼンチン) |
2003年 | “紙と版画”日本・オランダ版画展(Zaans Museum、オランダ) Interconnection /日本・アルバータ版画交流展(ギャラリーサンチュン、カルガリー、カナダ) クラコウ国際版画トリエンナーレ /特別展:日本・ポーランド(日本美術センター、ポーランド) |
2002年 | 50周年記念 現代日本版画展(ティコティン美術館、イスラエル) 日本の木版画(ULSTER大学/他、イギリス) |
【作品収蔵】いの町紙の博物館(高知県)、黒部市立美術館(富山県)、日本美術センター(ポーランド)、ティコティン美術館(イスラエル)

浮遊 X 1997年
技法:木版画
イメージサイズ:H 130.0 x W 90.7 cm

眠り 2008年
技法:木版画
イメージサイズ:H 67.0 x W 91.5 cm

とき放つ 2006年
技法:木版画
イメージサイズ:H 67.0 x W 91.5 cm